高纯度部件的零件清洗
高真空元件（UHV、XHV、UCV）的清洁对所用元件的清洁度提出了极高的要求，例如用于半导体工业的生产设备（如 EUV 和 DUV 技术）、用于科学、研究和工业的真空技术解决方案以及高功率激光系统。对纳米级超细颗粒的洁净度要求是当今的主流。在对无机物残留进行表面分析时，根据部件的不同，允许的数值可以达到原子百分比范围。针对高科技行业中的这些任务，Ecoclean 开发并生产了最适合应用的清洁解决方案。它们可确保以稳定、可持续和高效的方式达到所需的清洁度水平。
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高纯度应用领域的清洗技术
作为一家活跃于全球的全方位服务供应商，Ecoclean 涵盖了整个工业部件清洗领域。产品组合还包括水性表面处理和定制自动化解决方案。为适应各种高科技工业领域的具体要求和应用（中间或最终清洗，或根据 4 级至 1 级、材料、部件几何形状、杂质和清洁度规格以及生产环境进行清洗），可采用各种系统概念，利用水基介质和环保型溶剂对批量和单个部件进行清洗。专为高纯度应用开发的工艺技术，如超声波强化、脉冲压力清洗（PPC）、低压等离子、干燥（如真空、红外线和/或高纯度热风干燥）和介质制备系统，可确保达到最苛刻要求的稳定清洗效果。系统的设计和设备也为此做出了贡献，它们是根据极高的清洁度要求而量身定制的，例如特别适用的材料、表面处理和加工技术。
高纯应用领域的全面技术诀窍
为了以需求为导向、可持续和高效地解决高科技产业中的各种不同任务，如制造半导体生产设备、真空元件、高性能测量和分析系统以及超短波长激光器，一方面需要全面的技术知识。另一方面，还需要掌握应用和物理相互关系方面的知识。凭借我们在精密清洗领域的多年经验以及在全球完成的众多项目，我们拥有这两方面的知识。再加上我们的高纯技术中心配备的大量设备，以及与之相连的洁净室和测试设备，使我们能够在接近生产的条件下对每项任务的原始脏污部件进行清洗试验。这些可行性研究使我们能够根据材料、部件几何形状、污染、清洁度和产量要求，设计出灵活的、技术上和经济上最优的、可持续的清洗工艺和解决方案，包括自动化、清洗容器和/或洁净室的验证。这也适用于目前仍在使用人工清洗的越来越多的部件。
